为先进半导体制造中的关键材料提供

更新时间:2025-09-18 15:10 类型:新闻资讯 来源:网络整理

  

为先进半导体制造中的关键材料提供

  速科技7月24日音问,据清华大学官网先容,日前,清华大学化学系许华平教导团队正在极紫外(EUV)光刻资料上博得主要发扬,斥地出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶,为优秀半导体系作中的要害资料供给

  1月8日音问,今天,新加坡毕盛资产约束(APS Asset Management, “APS”) 的创始人兼联席首席投资官王邦辉(Wong Kok Hoi)正在接收彭博电视台的特意采访时示意,中芯邦际能够应用其上风正在

  速科技10月25日音问,据华中科技大学官微音问,今天,该校武汉光电邦度探讨中央团队,正在邦内率先占领合成光刻胶所需的原料和配方,助推我邦芯片制作要害原资料冲破瓶颈。 据先容,其研发的T150

  速科技10月15日音问,据“中邦光谷”民众号,日前,武汉太紫微光电科技有限公司(以下简称“太紫微公司”)推出的T150 A光刻胶产物,通过半导体工艺量产验证。 T150 A光刻

  速科技4月2日音问,据湖北九峰山实践室官微音问,九峰山实践室、华中科技大学构成笼络探讨团队,撑持华中科技大学团队冲破“双非离子型光酸协同巩固反映的化学放大光刻胶”技巧。 据

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